含氰廢水處理技術(shù)

1.堿性氯化

適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外)的含氰廢水。常用含氯氧化劑為次氯酸鈉、漂白粉、二氧化氯。工藝控制條件為: 第一階段 H 值為 10~11、化還原電位為 300 mV~350mV，第二階段 H值為8~9、化還原電位為 600mV700mV: 反應(yīng)時(shí)間取決于待處理廢水中總氰化物含量(一般為1h~1.5h) ;有效氯(以 C計(jì))的消量與總化物(以CN計(jì))量的比為6~10,反應(yīng)后廢水中余氯量應(yīng)在 2 mg/L~5 mg/L,經(jīng)處理后廢水中總氰化物(以CN計(jì))含量小于 0.2 mg/L。該技術(shù)藥劑來(lái)源廣泛，投資和運(yùn)行成本低，但出水含余氯及其他含氯副產(chǎn)物，設(shè)備腐蝕較嚴(yán)重。

2.過氧化氫氧化

適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的中低濃度含氰廢水。工藝控制條件為: 氧化反應(yīng) H值大于 7: 過氧化氫與總化物(以 CN計(jì)) 的摩爾比為 2:1: 氧化時(shí)間取決于化物濃度和氧化溫度(一般為 1h) 。處理后廢水中總氰化物(以 CN-計(jì)) 含量小于 0.2 mgL。該技術(shù)不產(chǎn)生二次污染，但過氧化氫易燃易爆的特性對(duì)運(yùn)輸及儲(chǔ)存要求較高。

3. 臭氧氧化

適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的中低濃度含氰廢水。工藝控制條件為: 氧化反應(yīng) pH值為 9~11: 一級(jí)氧化反應(yīng)臭與總氰化物(以 CN 計(jì)) 的摩爾比為 1:1:二級(jí)氧化反應(yīng)臭氧與總氰化物(以 CN計(jì)) 的摩爾比為 2.5: 1: 氧化時(shí)間取決于總氰化物濃度和氧化溫度(一般不小于 15 min)，若采用亞銅離子作為催化劑，可縮短反應(yīng)時(shí)間。處理后廢水中總氰化物(以CN計(jì))含量小于 0.2 mg/L。該技術(shù)不產(chǎn)生二次污染，無(wú)需添加藥劑，但臭氧發(fā)生設(shè)備投資高，運(yùn)行時(shí)電耗較高，處理能力受臭發(fā)生設(shè)備制約。

4. 電解

適用于處理含無(wú)機(jī)氰化物或氰合金屬基配合物(鐵氰配合物除外) 的含氰廢水。工藝控制條件為:進(jìn)水 pH 值為 9~10:氯化投加量可按總化物(以 CN計(jì)) 度的 30~60 倍估算:陽(yáng)極電流密度宜控制在 0.3 A/dm2~0.5 A/dm，電壓宜為6V~8.5V。處理后廢水中總化物(以CN計(jì)) 含量小于 0.2 mg/L。該技術(shù)占地面積小，廢水中金屬離子一般直接沉積到陰極上，產(chǎn)生沉淀量小。

建議

1.含氰廢水處理技術(shù)參數(shù)應(yīng)滿足 GB 50136、HJ2002 要求6.1.2.1.2含氰廢水經(jīng)過處理總氰化物達(dá)到控制要求后可進(jìn)入電鍍混合廢水處理系統(tǒng)，去除重金屬離子。

2.采用堿性氯化技術(shù)處理含氰廢水時(shí)，應(yīng)在加蓋密閉和集氣抽風(fēng)條件下收集產(chǎn)生的氣體，經(jīng)處理達(dá)到 GB 16297 要求后通過排氣簡(jiǎn)排放。6.1.2.1.4采用電解、過氧化氫氧化技術(shù)處理含廢水時(shí)，處理過程中產(chǎn)生的氨氣應(yīng)收集并處理，達(dá)到 GB 14554 要求后通過排氣簡(jiǎn)排放。